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Verios XHR SEM 掃描電鏡

Verios 是 FEI 領(lǐng)先的 XHR(極高分辨率)SEM 系列的第二代產(chǎn)品。在尖端半導(dǎo)體制造和材料科學(xué)應(yīng)用中,它可在 1 至 30 kV 范圍內(nèi)提供亞納米量級分辨率以及增強的對比度,滿足材料精密測量所需,同時又不會削弱傳統(tǒng)掃描電子顯微鏡 (SEM) 所具有的高吞吐量、分析能力、樣本靈活性和易用性等優(yōu)勢。

Verios 的生命科學(xué)應(yīng)用

  • 觀測敏感的生物樣本時,過高的成像電壓帶來的電子束會損傷樣本,從而無法在細(xì)胞研究中觀測關(guān)鍵細(xì)節(jié)。Verios XHR 掃描電子顯微鏡 (SEM) 最低可在 1kV 的電子束電壓下工作,因而能最大限度減少樣本干擾,同時又不會削弱分辨率和對比度。生物研究人員現(xiàn)在可以處理大量敏感的生物樣本,并迅速生成高分辨率圖像,從而洞察細(xì)胞器的關(guān)鍵功能和過程。

Verios XHR SEM 優(yōu)勢

  • 全新的高對比度檢測器 對敏感的生物樣本進(jìn)行最佳成像
  • 電子束減速 在極低的電壓下提供高分辨率成像和高表面靈敏度
  • 電子束熄滅裝置 限制敏感的生物樣本的劑量
  • 靜電掃描 最大限度減少圖像失真,并改善成像速度,從而進(jìn)一步提高工作效率和質(zhì)量

Verios 的電子工業(yè)應(yīng)用

  • Verios XHR SEM 推出了全新的檢測器硬件,將 SEM 的觀測能力進(jìn)一步拓展至 20 nm 亞納米量級半導(dǎo)體器件。Verios 可提供最佳的低電壓 SEM 分辨率和材料對比度,能夠讓半導(dǎo)體工藝控制實驗室測量對電子束敏感的材料以及無法使用傳統(tǒng) SEM 儀器成像的極小結(jié)構(gòu)。 Verios 還包括一些易于使用的新功能,能夠為 22 nm 技術(shù)節(jié)點及以下的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)提供最低的每樣本成像和測量成本。

Verios 的材料科學(xué)應(yīng)用

  • 對材料科學(xué)家來說,Verios 可以將亞納米表征拓展到當(dāng)下正在開發(fā)的全新材料(例如催化劑顆粒、納米管、孔隙、界面、生物對象和其他納米量級結(jié)構(gòu)),從而讓他們獲得重要的新發(fā)現(xiàn)。無需轉(zhuǎn)而采用 TEM 或其他成像技術(shù)便可獲得高分辨率、高對比度圖像。Verios 可靈活用于各類研究應(yīng)用,能夠容納全尺寸晶圓或冶金樣本之類的大樣本。您可以在高電流模式下執(zhí)行快速分析,也可以開展精確的原型設(shè)計應(yīng)用,例如電子束感應(yīng)式材料直接沉積或光刻。

掃描電鏡廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。

儀器性能和維護對于實驗室的運行來說至關(guān)重要,禹重為您提供培訓(xùn)、儀器服務(wù)計劃或按需維修服務(wù),幫助您獲得準(zhǔn)確可靠的結(jié)果以及最長的儀器正常運行時間。我們很清楚保持儀器的最優(yōu)性能對提高您的生產(chǎn)力極為重要,因此,我們定能在您需要時為您排憂解難。

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