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以屢獲殊榮的 K-Alpha XPS 系統(tǒng)為基礎打造，K-Alpha+ 能譜儀可提供顯著增強的能譜性能。這個巨大的進步可實現(xiàn)更快的分析、更好的元素檢測以及獲得更高分辨率的數(shù)據(jù)以更好地完成化學狀態(tài)鑒定。

分析選項包括革命性的復合型離子源、一個用于將空氣敏感樣品從手套箱轉移到系統(tǒng)的真空傳遞模塊，以及用于收集 ARXPS 數(shù)據(jù)的傾斜模塊。配備 Thermo Scientific? Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)（全面的表面分析軟件系統(tǒng)），K-Alpha+ 具有一系列的軟件功能，專為優(yōu)化數(shù)據(jù)解讀、數(shù)據(jù)報告和可用性而設計。K-Alpha+ XPS 系統(tǒng)可滿足經驗豐富的 XPS 分析員和新手的要求，將高性能 單色化 XPS 和濺射深度剖析與智能自動化和直觀控制結合在一起。

強大的性能

• 可選面積能譜分析
• 濺射深度剖析
• 微聚焦單色器
• 快照采集
• 高分辨率化學狀態(tài)能譜分析
• 絕緣樣品分析
• 定量化學成像

無以倫比的易用性

• 采集——能譜、圖像、剖析、線掃描
• 解讀—— 元素和化學狀態(tài)鑒定
• 處理 —— 定量、分峰擬合、實時剖析顯示、能譜圖像處理、PCA、相分析、TFA、NLLSF、PSF 扣除、光學/XPS 圖像疊加
• 報告—— 自動生成報告且可輕松導出到其他軟件包

所有硬件都通過 Avantage 軟件界面進行控制

• Avantage Indexer——數(shù)據(jù)存檔索引
• 審計跟蹤記錄
• 系統(tǒng)性能記錄
• 按需校準
• 完全的遠程操控

主要特點

• 分析器—— 180° 雙聚焦半球型分析器，配備 128 通道檢測器
• X 射線源—— Al Ka 微聚焦單色器，可變光斑尺寸（30-400 μm，以 5 μm 為步長）
• 離子槍—— 能量范圍 100-4000 eV
• 荷電補償——雙束源
• 樣品處理——4 軸樣品臺、60 x 60 mm 樣品區(qū)域、20 mm 最大樣品厚度
• 真空系統(tǒng)——2 x 220 L/s 渦輪分子泵，用于進樣室和分析室
• 可選配件——Thermo Scientific? MAGCIS? 復合型離子源、真空傳遞模塊、用于 ARXPS 的傾斜模塊、樣品偏壓模塊。

• 催化
• 化工
• 半導體
• 微電子
• 薄膜
• 太陽能
• 金屬
• 納米材料
• 玻璃
• 高分子
• 生物材料

儀器性能和維護對于實驗室的運行來說至關重要，禹重和賽默飛為您提供培訓、儀器服務計劃或按需維修服務，幫助您獲得準確可靠的結果以及最長的儀器正常運行時間。我們很清楚保持儀器的最優(yōu)性能對提高您的生產力極為重要，因此，我們定能在您需要時為您排憂解難。

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• 賽默飛K-AlphaPlus_XPS英文樣本